等離子體/化學(xué)刻蝕設(shè)備——等離子刻蝕機(jī)簡(jiǎn)介

        等離子蝕刻機(jī)又稱等離子蝕刻機(jī)、等離子平面蝕刻機(jī)、等離子蝕刻機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子蝕刻是干蝕刻見的形式。原理是暴露在電子區(qū)的氣體形成等離子體。由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放出的高能電子組成的氣體形成等離子體或離子。 , 當(dāng)電離的氣體原子被電場(chǎng)加速時(shí)，它們會(huì)釋放出足夠的力以將材料與表面排斥力緊密結(jié)合或蝕刻表面。在某種程度上，等離子清洗本質(zhì)上是等離子蝕刻的溫和情況。干蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源和真空部分。工件被送入由真空泵抽真空的反應(yīng)室。氣體被引入并與等離子體交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)生的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體蝕刻工藝實(shí)際上是一種反應(yīng)等離子體工藝。最近的發(fā)展是在反應(yīng)室內(nèi)安裝擱板形式。這種設(shè)計(jì)是靈活的。用戶可以卸下擱板來配置合適的等離子蝕刻方法：反應(yīng)等離子（RIE）、下游等離子體（downstream）、直接等離子（direction Plasma）。